Mag.PE-CVD

デュアルマグネトロンスパッタカソードを使ったプラズマCVDであり、スパッタと同じ作業圧力で、有機無機ハイブリッドSiOxCy膜の高速（~400nm.m/min)、大面積均一成膜を可能にします。