基板対向式デユアルパルススパッタ源　DRM400

絶縁性の酸化膜、窒化膜を8インチ径の基板へ均一に高速成膜できるスパッタ源であり、電気的に独立した内側の円形ターゲットと外側のリング状ターゲットから構成されています。

内外のターゲットをユニポラー、バイポラー、またはパルスパケットモードで動作させることができます。RMカソード同様、隠れアノード、移動磁石方式により、低温、安定成膜を可能にしています。

ガラスやプラスチック光学部品、電子部品への絶縁性酸化膜や窒化膜を形成するのに適しています。反射防止膜、ＮＩＲカットフィルター、ＵＶ反射膜、ルゲートフィルターなどを形成できます。